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課程簡介與特色：

美國蘋果公司與韓國三星電子公司的專利爭訟，設計專利獲得的賠償金額遠大於發明專利，顯示設計專利重要性不亞於發明及新型專利，開創了產品與設計整合的新保護策略。

發明或新型專利以保護技術，而「設計專利」則保護物品的外觀造型設計，必須是「形狀、花紋、色彩或其結合」之創作，且符合「透過視覺訴求」與「應用於物品」之特點，著重於物品質感、親和性、高價值感之視覺效果表達，以增進商品競爭力及使用上視覺之舒適性，與技術性無關。隨著新興科技與數位創新經濟的發展，圖像設計呈現多元，設計專利之保護標的涵蓋範圍甚廣，創作人常不知自己的創作產品可申請設計專利保護，小的需透過顯微鏡觀察的鑽石表面、肉眼即可辨別的汽機車或手機外殼，大至建築物、裝潢設計、橋樑，及電腦圖像及圖形化使用者介面等，均可為設計專利申請範圍，不僅可提升產品之全面侵權防護，也可提高產品之識別度及保護。

本課程旨在培養學習者運用專利制度保護視覺性、裝飾性、設計感成果的能力，同時理解設計專利的保護方式、效果、爭議處理等相關問題。以現行專利法、專利審查基準為教材，詳述我國設計專利制度與相關規定，課程架構如下。設計專利的權利由圖式界定，理解容易，僅需16小時，就能馬上深入習得所有設計專利的精髓。

【預期培育能力】

• 了解我國專利法中與設計專利有關的規定
• 了解工業設計分類與設計專利之關係
• 檢索設計專利的能力
• 檢視設計專利申請文件的品質
• 了解設計專利申請相關規定-撰寫格式、注意事項、修改、更正、訂正、改請等
• 了解設計專利審查的相關規定

講師：耿筠，國立台灣科技大學專利研究所教授

學歷：東海大學工業工程學系學士、政治大學企業管理研究所碩士、中山大學企業管理研究所博士、加拿大維多利亞大學研究一年

專長：智慧財產管理、科技管理、科技政策、創新管理、技術移轉、專利分析

經歷：國立雲林科技大學企業管理學系副教授、教授、兼任經營管理暨研究中心主任、企管系所主任、國際企業管理所所長、創業管理碩士學位學程主任；中原大學企業管理系所助理教授、副教授、兼任研發處校務發展組組長；勤益工商專校兼任講師；國家考試專利師典試委員；中華映管(股)智權法務資深顧問；TIPs起草人；經濟部、農委會研發成果管理評鑑制度起草人；專科學校以上產學合作實施辦法起草人；國科會產學合作諮詢委員；智慧財產權管理季刊智財權管理實務專欄作家；各部會智財相關計畫審查委員；經濟部智慧財產局「智慧財產培訓學苑」顧問及種仔師資；財團法人國家衛生研究院、資訊策進會等智權管理業務顧問；Asia Pacific Legal Institute: Associate Researcher；工業技術研究院電子工業研究所企畫工程師；；金碟光電科技（股）公司：技術顧問、CD廠廠長、研發部經理；巨擘科技（股）公司：副管理師、管理師；國科會計畫專任助理。

報名對象：(1)從事智慧財產相關規劃、保護經營管理人員；(2)處理設計專利的專利工程師；(3)產、學、研等從事各種與設計專題相關者；(4)其他在實務上有需要設計專利知識者。

先備知識：本課程無須具備特定的先備知識。

講義：(1)為尊重講師智慧財產權，僅提供課程紙本簡報，恕無法提供電子檔。(2)參考資料：專利法、專利審查基準第三篇設計專利實體審查、國際工業設計分類等智慧財產局網站下載。

課程與學費：近16小時以上的課程，學費特價每人新台幣7,500元（含紙本講義一本及郵費）。

MMOT校友享95折優惠。同機構3人（含）以上同時報名且完成繳費者，可享9折優惠。（請於報名網頁「備註說明Note」欄內備註）

使用工具與期間：本會MMOT數位學習平台（TronClass或下載TronClass APP）。上課權限開啟後，E-mail學員帳號及密碼等資訊，即可觀看課程影片。本課程只限學員本人收看使用，不得給予他人使用或公開播放。學員享有90天效期收看，效期依學員首次登入課程起算。

繳費：線上報名後，經承辦人確認資料填寫完整，將提供繳費資訊（信用卡、Web ATM、ATM櫃員機、超商條碼繳費、銀行匯款等方式），繳費後3個工作日即可開啟上課權限。

退費：已繳費欲辦理退費，(1)課程開通前1日以E-mail通知聯絡人，將退還80%學費；(2)課程開通後，15日內上過課者，若觀看課程時數未逾1/3者，退50%學費，超過15日申請恕不退費。

結業：觀看課程每單元主題至少超過85%以上內容，並完成線上問卷後，本會郵寄結業證明。

詢問講師問題：若有問題想詢問講師，屆時可於系統中提問，講師將定期回覆，恕難隨時或及時回覆，問題範圍限課程內容而非特定問題或是實務問題之解決。

報名網址：https://www.mmot.org.tw/events/19/form

聯絡人：朱小姐，E-mail: mmot@mmot.org.tw，電話：02-8911-2003。

課程主題與簡介

【說明】

• 現行專利法：民國108年05月01日修訂版本
• 專利審查基準：110年07月22日公布版本
• 國情不同，設計專利的制度不同
• 設計專利的權利範疇主要由圖式界定
• 設計專利沒有早期公開，公開資料庫無法檢索到任何資料，與全球主要專利局（如美國）的制度是一致的